功能性蝕刻產品系列。使用於半導體製程中的清潔配方,可以在幾近無損的條件下將結構上的蝕刻殘餘物除去。
JFN-SLE01 - 二氧化矽 高選擇比蝕刻液
JFN-SLE07 - 鈦 蝕刻液
JFN-SLE10 - TiO2, Al2O3, SiNx 蝕刻液
JFN-SLE12 - 銅金屬 化學拋光劑
JFN-SLE13 - 矽晶背 霧化
玻璃處理
Ⅲ-Ⅴ族